1 - 2007

Компания «Би Питрон» открывает российский рынок для PLM-решений на основе системы DELMIA

Прошлый год ознаменовался для компании «Би Питрон» важным этапом в развитии бизнеса по продаже и внедрению PLM-решений, поставляемых компаниями Dassault Systemes (DS) и IBM. Был подписан и успешно выполнен первый в России контракт на поставку системы DELMIA, одного из основных компонентов PLM-решений IBM/DS. Заказчиком стало ОАО «Си Проект» (Санкт-Петербург), которое вот уже несколько лет успешно работает в отрасли судостроения, апробируя и внедряя передовые информационные технологии.

Начиная с 2002 года компания «Би Питрон» последовательно пополняла портфель PLM-решений, осваивая работу с системами SMARTEAM, CATIA и различными CAA-приложениями. Освоение системы DELMIA явилось логическим шагом в направлении расширения предлагаемых заказчикам PLM-решений, охватывая не только разработку изделия, но и этапы его производства и эксплуатации.

Пакет DELMIA PLM for Manufacturing содержит богатый набор инструментов для цифрового описания, прогнозирования и моделирования производственных процессов изготовления изделий и необходимых для этого ресурсов. По сути, DELMIA — это цифровая виртуальная фабрика, позволяющая исследовать и оптимизировать процессы изготовления и обслуживания изделий до начала их реального производства в металле. Будучи объединенной с системой CATIA, DELMIA позволяет моделировать процессы изготовления изделия параллельно с его проектированием, оперативно учитывая возникающие конструктивные изменения, множественность версий и исполнений изделия, ограничения, налагаемые оборудованием и человеческим фактором. Это позволяет существенно сокращать сроки разработки и запуска в производство новых изделий, а также повышать их качество и технологичность.

Пакет DELMIA состоит из групп программных продуктов, предназначенных для решения конкретных задач:

DELMIA Process Planning — программы, обеспечивающие среду глобального планирования процессов и ресурсов производства изделия и позволяющие на ранних стадиях работы над его созданием представить точную картину всех взаимосвязей между конструкцией изделия и параметрами производственных систем. В число задач, решаемых этой группой программных продуктов, входят построение блок-схем процессов, оценка временных затрат, планирование необходимых ресурсов, оценка стоимости продукта с анализом структуры затрат, расчет загрузки оборудования и ряд других;

DELMIA Process Detailing & Validation — программы для детальной разработки производственных процессов и проверки принятых решений с учетом реальной 3D-геометрии изделий, необходимого уровня квалификации рабочей силы и ее взаимодействия. Программы данной группы позволяют отрабатывать в виртуальном пространстве процесс производства, ремонт оборудования, размещение точек сварки на модели изделия, последовательность операций механообработки и сборки изделий, размещение оборудования и т.п.;

DELMIA Resource Modeling & Simulation — программы этой группы содержат инструментарий для создания и оптимизации ресурсов, необходимых для производства и обслуживания изделий, включая промышленные роботы, станки, инструменты, приспособления. Все эти ресурсы вместе с моделями людей (манекенами) позволяют наглядно моделировать реальные процессы в виртуальном пространстве и реальном времени, решая задачи описания и оптимизации производственного процесса, программирования роботизированных комплексов и станков с ЧПУ, проверки эргономичности;

DELMIA Production Management — программы этой группы позволяют специалистам, непосредственно связанным с созданием изделия, использовать всю полноту информации об изделии, процессах и ресурсах для решения текущих задач на своих рабочих местах и получения результатов в простом и наглядном виде. В частности, имеются средства для создания рабочих инструкций в 3D-виде, визуализации различных процессов, поиска нужной совокупности данных, интеграции с другими приложениями (ERP, MES и др.).

В настоящее время компания «Би Питрон» предлагает заказчикам новый релиз продуктов CATIA и DELMIA V5R17, содержащий ряд усовершенствований и новых возможностей для более эффективного освоения и использования этих систем.

САПР и графика 1`2007